聖戈班小百科

Published on 2019-12-25
Summary:
氧化膜厚度是再PDS®擴散過程需要監測的最重要的參數。 它決定了器件質量,均勻性和固態源的使用壽命。
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Published on 2019-12-25
Summary:
在微電子行業中,對矽片進行擴散需要用到硼或者磷源,離子註入是8〃及以上尺寸矽片最常用的方式。液態或者氣態源廣泛用在均勻性要求不高的工藝中,而固態擴散源是壹種高要求擴散的優良的解決方案。聖戈班從上世紀70年代開始開發固態源工藝,目前提供全方位的產品和技術支持。PDS○R是Planar Diffusion Sources (平面擴散源)的商標。
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